Производи

Керамичка плоча од силицијум карбида која се користи за печење општег порцелана и керамичких производа (температура испод 1.450 степени), направљена је од СиЦ везаног силицијум оксидом (Си2О3), и...

Наше силицијумне млазнице са горионичари силицијума користе исту велику прецизност као и фаетус како би се осигурало да квалитет млазнице испуњава индустријске стандарде. У широко се користи у...

СИЦ цеви са високим температурама су критичне компоненте у индустријама које захтевају екстремну топлотну стабилност, отпорност на корозију и механичку издржљивост. Користе се у апликацијама на...

Хуан Сханг-Водећи произвођач напредних керамичких решења, специјализовао се за производњу реакције синтероване силицијум силицијум-карбид (Р-Сиц) ваљкастих шипки за високу температуру, високо...

Карбидно-силикатне плоче (СиЦ) су доступне у различитим величинама, дебљинама и облицима како би задовољиле различите захтеве примене. Сиц плоче се такође могу користити у комбинацији са другим...

ХУАН СХАНГ је специјализован за истраживање и развој и производњу цеви и цеви од силицијум карбида, производа од силицијум карбида за различите примене. Изаберите силицијум карбид синтеровану цев...

ХУАН СХАНГ професионално истраживање и развој и производња Реакциона цев за сагоревање коморе за сагоревање СлСлЦ, величина зрачења од силицијум карбида унутар цеви може се произвести према...

Реакциона синтерована пламеноцевна пећ од силицијум карбида, унутрашња цев пећи СИЦ има карактеристике добре топлотне проводљивости, великог губитка топлотног напрезања и дугог века трајања. Ако...

Уређај за грејање цеви од силицијум карбидног гаса се углавном састоји од тела цеви, горионика и уређаја за рекуперацију отпадне топлоте. Реакционо синтеровано тело грејне цеви од силицијум...

Цеви за зрачење гаса од силицијум карбида се обично користе у индустријским апликацијама на високим температурама као што су пећи за топлотну обраду, пећи за ковање и други термички процеси....

РБСИЦ високотемпературни гасно хлађени реакторски измењивачи топлоте се користе у процесима производње полупроводника, као што су хемијско таложење паре (ЦВД) и епитаксијални раст. Они обезбеђују...